简述电解抛光工艺_铝表面处理工艺

  说到电解抛光工艺，我们早在2013年国庆节的时候就已经了解过（导读：金属表面装饰加工中的电解抛光与化学抛光 http://www.hswj66.com/Article/jinshubiaomianzhuang_1.html）

  小编我把自己对电解抛光工艺所做的电解抛光经验现公布予大家参考，希望读者能多提宝贵意见！

  磷酸：75-80%；硫酸：15-20%；铬酐：5-10%；温度：75-85度；电流密度：8-15A/dm2；电压：10-15V；阴极：铅锡板；搅拌：阳极移动；时间：6分钟以内

  操作规范：产品入槽时先应和槽液稍有反应在通电，这样轻微的反映有利于去除产品表面的污垢和自然氧化膜，如果不先除去污垢和自然氧化膜直接通电将很容易造成抛光过程中产品表面的局部点状腐蚀

  当槽液温度过高时很容易造成产品水洗时出现蓝雾状或产品的点状腐蚀；当温度过低时产品就不易被抛光

  当电流密度过低时产品表面不易抛光和整平，当电流密度过高时产品周围温度上升较快，会引起强烈的反应，很容易造成电化学腐蚀

  搅拌或移动可以迅速扩散产品周围的铝离和温度，补充产品周围的新溶液，防止造成腐蚀

  电解抛光的时间取决于铝材的纯度、表面组织状况和溶液的温度、成分及电流密度等因素；铝材的纯度、温度、电压、表面光洁度高的话，抛光时间就短；反知就要适当延长抛光时间

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